Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Настольная установка DC‑магнетронного распыления ZK-JS02 для СЭМ

Настольная установка DC‑магнетронного распыления ZK-JS02 для СЭМ

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

ZKJS02

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: ZK-JS02
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод нанесения покрытия: магнетронное распыление постоянного тока
Камера: высокоборосиликатное стекло
Размер камеры: Ø 108 мм × 130 мм (внешние габариты стеклянной колбы: Ø 128 × 100 мм)
Размер подложки: предметный столик Ø 90 мм (одинарная чашка вмещает образец до Ø 50 мм, либо одновременно можно разместить 4 образца Ø 25 мм / 6 образцов Ø 15 мм)
Источники испарения (распыляемые мишени): Au (золото), Pt (платина), сплав Au-Pd (золото-палладий), Ag (серебро), Pb (свинец), Cu (медь), Cr (хром), Sb (сурьма) и др.
Управление: микроконтроллер + 5.1-дюймовый сенсорный ЖК-экран
Габариты: 424 × 271 × 255 мм
Мощность: максимальное потребление 500 Вт (основной блок + механический насос); общая заявленная входная мощность 2000 Вт.
Ток распыления: 3–30 мА (с плавной регулировкой, шаг 1 мА)
Время распыления: 1–600 сек (шаг 1 сек)
Входное напряжение: 220 В переменного тока ± 10%, 50 Гц
Рабочее напряжение: 2400 В постоянного тока
Предельный вакуум: < 1 Па
Вакуумный насос: двухступенчатый пластинчато-роторный насос со скоростью откачки 1 л/с
Рабочий (распыляемый) газ: воздух или аргон
Вес (основного блока): 11 кг
Система безопасности: двойная защита (отслеживание тока распыления и уровня вакуума с мгновенным отключением для предотвращения поломок)
Отображение и функции: вывод графиков тока и вакуума в реальном времени, настройка яркости дисплея, учет времени наработки системы и ресурса мишеней
Рабочие условия (окружающая среда): 5–40 °C, относительная влажность < 60 %
Условия хранения: -10–60 °C, относительная влажность < 80 %
Сертификация: CE
Назначение: нанесение токопроводящей металлической пленки для подготовки образцов к сканирующей электронной микроскопии (СЭМ)
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

ZK-JS02 — настольная установка магнетронного распыления постоянного тока для нанесения токопроводящих металлических плёнок на образцы перед сканирующей электронной микроскопией. Данное оборудование спроектировано специально для качественной пробоподготовки образцов перед исследованиями методами растровой электронной микроскопии (РЭМ). Технология DC-распыления обеспечивает формирование мелкозернистых, высокооднородных покрытий из золота, платины или серебра, что критически важно для предотвращения накопления поверхностного заряда и значительного улучшения контраста изображений при анализе диэлектрических материалов.

Система автоматизации построена на базе надежного микроконтроллера собственной разработки, обеспечивающего стабильную работу источника питания плазменного разряда и высокую повторяемость технологических циклов. Управление рабочими режимами осуществляется через эргономичный 5.1-дюймовый сенсорный ЖК-дисплей, интерфейс которого интуитивно понятен и позволяет оператору в режиме реального времени задавать, настраивать и контролировать такие ключевые параметры техпроцесса, как ток магнетронного разряда и продолжительность распыления.

Конструктивное исполнение установки ориентировано на максимальное удобство эксплуатации в условиях аналитической лаборатории. Благодаря независимому аппаратному ядру, комплекс обладает отличной масштабируемостью для возможной программной кастомизации под нестандартные исследовательские задачи. ZK-JS02 является надежным и оптимальным выбором для материаловедческих центров, где требуется регулярная, оперативная и прецизионная металлизация непроводящих структур.