Установка электронно‑лучевого напыления PC-DZ01

PC-DZ01 — установка электронно‑лучевого напыления для нанесения тонких металлических и функциональных покрытий в высоком вакууме. Модель оснащена U‑образной вакуумной камерой напыления 500 × 600 × 500 мм, вращающимся держателем подложек до 4 дюймов, нагревом до 600 ℃ и электронно‑лучевым источником мощностью до 8 кВт с четырёхкарманным водоохлаждаемым тиглем. Установка подходит для НИОКР, университетских лабораторий и малосерийного PVD‑нанесения покрытий, где требуется испарение тугоплавких материалов и контроль толщины плёнки.

Установка построена на базе U-образной вакуумной камеры с фронтальной загрузкой, что упрощает доступ к технологической оснастке и обслуживание рабочих узлов. В стандартной конфигурации система оснащается электронно-лучевым испарителем с анодным напряжением 8 кВ и регулируемой мощностью до 8 кВт, а также водоохлаждаемым четырехкарманным тиглем, что позволяет стабильно осаждать материалы с высокой температурой плавления и обеспечивать высокую чистоту покрытия. Опционально возможна установка узла термического резистивного испарения для работы с низкоплавкими материалами. Равномерность покрытия достигается за счет вращения подложки в диапазоне 5–60 об/мин, а нагрев подложкодержателя до 600 ℃ с точностью ±1 ℃ повышает адгезию и способствует формированию пленок с заданной структурой. Контроль толщины в процессе осаждения осуществляется кварцевыми микровесами, что делает PC-DZ01 эффективным решением для задач тонкопленочной технологии, микроэлектроники и оптоэлектроники.