Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Настольная установка термического вакуумного напыления углерода BY-ZD02

Настольная установка термического вакуумного напыления углерода BY-ZD02

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

BYZD02

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: BY-ZD02
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод нанесения покрытия: импульсное термическое испарение (программируемое, от 0 до 9 импульсов)
Камера: боросиликатное стекло
Размер камеры: Ø160 мм × 110 мм
Размер подложки (предметного столика): 50 мм
Источник испарения: высокочистая углеродная нить
Максимальный ток испарения: 80 А
Рабочий вакуум: 4–6 Па
Предельный вакуум: 5 Па
Время вакуумирования: < 5 мин (до 2 Па)
Вакуумный насос: двухступенчатый пластинчато-роторный насос (VRD-8, 8 м³/ч при 50 Гц)
Управление: автоматическое, сенсорный экран
Габариты: 390 мм × 310 мм × 290 мм
Вес: ~50 кг
Мощность (энергопотребление): 1,6 кВт (питание 220 В переменного тока, 50 Гц)
Назначение: пробоподготовка для высокоразрешающей электронной микроскопии (СЭМ/ПЭМ), EBSD-анализ и рентгеноспектральный микроанализ
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

BY-ZD02 — настольная установка термического вакуумного напыления углерода для пробоподготовки к высокоразрешающей СЭМ/ПЭМ, EBSD‑анализу и рентгеноспектральному микроанализу. Система использует программируемое импульсное испарение высокочистой углеродной нити, оснащена боросиликатной вакуумной камерой Ø160 × 110 мм, столиком 50 мм и двухступенчатым пластинчато‑роторным насосом. Рабочий вакуум 4–6 Па, ток испарения до 80 А и сенсорное управление позволяют получать тонкие углеродные покрытия для аналитических задач без перегрева образца.

В качестве источника осаждения напылитель использует высокочистую углеродную нить, нагреваемую резистивным методом. Важным технологическим преимуществом аппарата является поддержка двух режимов испарения: быстрого (flash) и программируемого импульсного (от 0 до 9 импульсов). Использование коротких импульсов тока минимизирует термическое воздействие на чувствительную структуру подложки и эффективно предотвращает разбрызгивание крупных макрочастиц углерода, гарантируя формирование однородного покрытия без артефактов.

Рабочая камера выполнена из толстостенного прозрачного боросиликатного стекла, что обеспечивает полный визуальный контроль состояния углеродной нити в процессе напыления. За откачку отвечает производительный двухступенчатый пластинчато-роторный насос, выводящий систему на рабочее давление менее чем за пять минут. Благодаря автоматизированному управлению через сенсорный интерфейс, установка обеспечивает эталонную воспроизводимость результатов, являясь надежным решением для рутинной пробоподготовки в материаловедческих и биологических лабораториях.