Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Трёхисточниковая напылительная установка BY-JS11 для проводящих покрытий

Трёхисточниковая напылительная установка BY-JS11 для проводящих покрытий

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

BYJS11

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: BY-JS11
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод нанесения покрытия : ионно-лучевое напыление (DC sputtering)
Количество мишеней: 3 независимых источника
Материалы мишеней: стандарт: Au (золото); опционально: Ag, Al, Pt и др.
Размер мишени: диаметр 47 мм (стандарт 50 × 0,1 мм для Au)
Размер камеры: диаметр 160 мм × высота 120 мм
Столик для образцов: регулируемый, диаметр 50/70 мм (настраиваемый)
Рабочий газ: аргон (Ar), азот (N₂) и другие инертные газы
Ток напыления: до 50 мА (рекомендуемый рабочий ток ≤ 30 мА)
Скорость осаждения: более 40 нм/мин
Вакуумная система: высокопроизводительный вакуумный насос в комплекте
Режим управления: ручной (manual operation)
Входная мощность: 2000 Вт
Назначение: пробоподготовка для СЭМ, нанесение проводящих слоев
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

BY-JS11 — компактная трёхисточниковая напылительная установка для нанесения проводящих покрытий на образцы перед СЭМ/РЭМ‑анализом. Система использует DC‑распыление, оснащается тремя независимыми источниками, вакуумной камерой Ø160 × 120 мм, регулируемым столиком Ø50/70 мм и поддерживает мишени Au, Ag, Al, Pt и другие материалы. Модель подходит для лабораторий, которым требуется быстрый вакуумный напылитель для пробоподготовки и нанесения тонких металлических слоёв.

Ключевой особенностью системы является револьверная конструкция с тремя независимыми мишенями, что позволяет осуществлять последовательное осаждение различных металлов без нарушения вакуумного режима в рабочей камере. Применение технологии магнетронного распыления на постоянном токе обеспечивает получение однородных мелкозернистых покрытий, что критически важно для устранения эффектов накопления заряда при исследовании непроводящих биологических и полимерных образцов методами сканирующей электронной микроскопии.

Внутренняя оснастка включает регулируемый по высоте столик для подложек, позволяющий оптимизировать расстояние до источника и контролировать морфологию формируемого слоя. Инженерное исполнение системы отличается высокой надежностью: вакуумная камера выполнена из высококачественных материалов с визуальным контролем процесса через смотровые окна, а интегрированный блок управления обеспечивает точную юстировку тока напыления и расхода рабочего газа. Данная модель представляет собой сбалансированное решение для оперативного нанесения тонких пленок золота, серебра или платины, гарантируя стабильную воспроизводимость результатов при минимальных затратах времени на цикл откачки и напыления.

Благодаря компактному исполнению и возможности использования широкого спектра инертных газов, установка является оптимальным выбором для центров коллективного пользования и академических исследовательских групп.