Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Многомишенная установка магнетронного распыления BY-JS10 для металлических плёнок

Многомишенная установка магнетронного распыления BY-JS10 для металлических плёнок

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

BYJS10

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: BY-JS10
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод осаждения: магнетронное распыление постоянного тока (DC Sputtering)
Вакуумный насос: масляный роторный вакуумный насос (требуется заливка масла)
Скорость откачки (50 Гц): 16 м³/ч (4.4 л/с)
Скорость откачки (60 Гц): 19.2 м³/ч (5.2 л/с)
Предельный вакуум: 2 Па
Максимальный ток распыления: 1.6 А
Время достижения вакуума: < 5 мин (до 2 Па)
Диапазон рабочего давления: от 20 Па до 8 Па
Контроль вакуума: измерение в диапазоне от атмосферного давления до 2 × 107 мбар
Размер рабочей камеры: Ø350 × 240 мм
Материал камеры: устойчивое к царапинам кварцевое стекло
Смотровое окно: встроенное кварцевое окно для наблюдения за процессом
Совместимые материалы мишеней: золото (Au), серебро (Ag), платина (Pt), медь (Cu)
Размер мишени: Ø200 мм
Напряжение питания: 110 В / 220 В (переключаемое)
Энергопотребление: < 1500 Вт
Габариты установки: 490 × 400 × 590 мм
Вес (нетто): 70 кг
Назначение: создание многослойных тонких пленок, подготовка образцов РЭМ, НИОКР
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

BY-JS10 — компактная установка магнетронного распыления постоянного тока для нанесения металлических и многослойных тонких плёнок в лабораторных условиях. Система оснащена рабочей камерой Ø350 × 240 мм из кварцевого стекла, мишенью Ø200 мм, роторным вакуумным насосом и источником распыления с максимальным током до 1,6 А. Установка подходит для НИОКР, подготовки образцов для РЭМ и получения покрытий из Au, Ag, Pt, Cu и других проводящих материалов.

Ключевым преимуществом системы является наличие трех независимых магнетронных источников, что позволяет осуществлять последовательное напыление различных металлов и сплавов без разгерметизации рабочей камеры, гарантируя идеальную чистоту межслойных границ. Интеллектуальное управление на базе промышленного PLC-контроллера обеспечивает полную автоматизацию вакуумного цикла и параметров плазменного разряда, исключая влияние человеческого фактора на воспроизводимость результатов. Интегрированный вращающийся подложкодержатель в сочетании с прецизионной юстировкой мишеней позволяет достигать исключительной равномерности толщины и высокой адгезии осаждаемых слоев на различных типах подложек.

Благодаря эффективной системе откачки установка демонстрирует быстрый выход на рабочий режим, что существенно повышает производительность экспериментальных исследований. Модель выполнена в компактном настольном исполнении, сочетая в себе эргономику лабораторного прибора и надежность промышленного оборудования, и является незаменимым инструментом для прототипирования современных микроэлектронных устройств.