Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Низкотемпературная установка магнетронного распыления BY-JS08 для непроводящих образцов

Низкотемпературная установка магнетронного распыления BY-JS08 для непроводящих образцов

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

BYJS08

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: BY-JS08
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод нанесения покрытия: низкотемпературное магнетронное распыление
Камера: стеклянный цилиндр
Размер камеры: Ø160 мм × 110 мм
Размер столика для образцов: Ø50 мм
Материал мишени: золото (стандарт), серебро, платина, алюминий
Размер мишени: диаметр 50 мм, толщина 0,1 мм (для золота)
Максимальный размер субстрата: Ø70 мм (возможно изменение размера)
Вакуумный насос: роторный насос (скорость 2 л/с)
Габариты установки: 300 мм × 360 мм × 380 мм
Вес системы: 28 кг
Назначение: подготовка непроводящих образцов для СЭМ-исследований
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

BY-JS08 — компактная низкотемпературная установка магнетронного распыления для нанесения проводящих покрытий на непроводящие образцы перед СЭМ‑исследованиями. Система оснащена стеклянной цилиндрической камерой Ø160 × 110 мм, столиком Ø50 мм, роторным насосом 2 л/с и мишенью Au в стандартной комплектации; опционально доступны Ag, Pt и Al. Модель подходит для лабораторий электронной микроскопии, которым требуется простой вакуумный напылитель для пробоподготовки без перегрева образцов.

Конструкция системы базируется на использовании компактной вакуумной камеры, обеспечивающей высокую скорость откачки и визуальный контроль процесса в реальном времени. В основе метода лежит низкотемпературное магнетронное распыление, которое исключает термическое повреждение чувствительных структур и биологических объектов при формировании мелкозернистых металлических пленок высокой плотности. Интегрированный магнетронный источник работает с прецизионной регулировкой тока, позволяя гибко управлять скоростью осаждения для достижения требуемой морфологии поверхности. Установка укомплектована надежным пластинчато-роторным насосом и системой точного натекания рабочего газа через игольчатый вентиль для поддержания стабильного плазменного разряда.

Компактное исполнение в сочетании с интуитивно понятным контролем вакуумного цикла делает BY-JS08 идеальным решением для материаловедческих лабораторий и центров микроскопии, где требуется высокая воспроизводимость результатов при минимальных габаритах оборудования. Профессиональная компоновка узлов гарантирует длительный срок службы и простоту технического обслуживания в условиях интенсивной эксплуатации.