Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » CVD установки » Система CVD ультразвукового распылительного пиролиза ZYLAB Ultrasonic Atomization Pyrolysis CVD System

Система CVD ультразвукового распылительного пиролиза ZYLAB Ultrasonic Atomization Pyrolysis CVD System

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

UAPCVD

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Бренд: ZYLAB
Производитель: ZYLAB Solution
Страна производства: Китай
Атомизатор ультразвуковой – частота: 2,4 МГц
Размер атомизированных капель: 5–10 µm
Ёмкость резервуара раствора: 160 мл
Насос перистальтический: WP110, трубка φ2 мм × 1 мм
Расход раствора: до 9 мл/мин
Поток газа (rotameter): 0,5–8 л/мин
Размер устройства: 800 мм (L) × 390 мм (H) × 280 мм (D)
Вес: ~10 кг
Трубчатая мини-печь: O1200-50, макс. 1200 °C, камера Φ80×200 мм
Питание: 220 В / 50 Гц
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

Установка Ultrasonic Atomization Pyrolysis CVD System от ZYLAB предназначена для высокоточного нанесения тонких функциональных покрытий методом химического осаждения из паровой фазы с использованием жидких прекурсоров. Благодаря ультразвуковому атомизатору (2,4 МГц) система преобразует растворы металлоорганических или неорганических солей в равномерный аэрозоль с размером капель 5–10 мкм. Далее аэрозоль транспортируется потоком газа в зону высокой температуры, где происходит пиролиз и образование тонкой плёнки на поверхности подложки.

Эта CVD установка обеспечивает высокую однородность покрытия, точный контроль состава и возможность работы с широким спектром материалов — от оксидов металлов до многокомпонентных соединений. Система подходит для лабораторных исследований, прототипирования и малосерийного производства, а также может быть адаптирована под ролл-то-ролл процессы. Низкие требования к прекурсорам, отсутствие токсичных газов и энергоэффективность делают установку удобным инструментом для современных исследовательских центров и технологических компаний.