Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » CVD установки » Трехзонная трубчатая печь ZYLAB Three‑Zone Tube Furnace O1200‑IIIT для процессов CVD
Трехзонная трубчатая печь ZYLAB Three‑Zone Tube Furnace O1200‑IIIT для процессов CVD
АРТИКУЛ:
O1200IIIT
Товар в наличии
Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.
Характеристики
Бренд: ZYLAB
Производитель: ZYLAB Solution
Страна производства: Китай
Максимальная температура: до 1200 °C (<1 ч)
Рабочая непрерывная температура: ≤ 1100 °C
Скорость нагрева: ≤ 20 °C/мин (рекомендуется 10 °C/мин)
Зоны нагрева: три независимые зоны
Длина зон нагрева: 200 мм + 400 мм + 200 мм
Материал трубки: высокочистый кварц
Размеры трубки (варианты): Φ50×1400 мм, Φ60×1400 мм, Φ80×1400 мм, Φ100×1400 мм
Система управления: сенсорный 7″ экран, 30 этапов программирования, 15 температурных кривых
Вакуумное уплотнение: фланец, вакуум ≤ 10 Па
Элементы нагрева: высококачественный сплав, японская изоляция, двойной корпус с охлаждением
Цена: по запросу
- Официальная гарантия от производителя
Поделиться товаром
Преимущества нашей продукции
- Большой выбор оборудования на складе
- Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
- Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
- Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
- Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
- Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
- Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования
Описание
Установка Three‑Zone Tube Furnace O1200‑IIIT от ZYLAB – специализированная система для процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD), а также для исследований и разработок в области наноматериалов, тонкоплёночных покрытий, графена и микроэлектроники. Благодаря трёхзонной конструкции каждый из трёх участков может работать независимо, что позволяет создавать непрерывную зону равномерного нагрева или задавать разные температурные профили для сложных процессов. Устройство оснащено сенсорным интерфейсом и программируемыми алгоритмами (до 15 заранее заданных кривых и 30 этапов программирования), что значительно повышает воспроизводимость и повторяемость экспериментов.
Максимальная рабочая температура до 1200 °C и непрерывная работа при ≤ 1100 °C открывают широкий спектр применения — от синтеза высококачественного графена и углеродных нанотрубок до осаждения оксидов, нитридов и модификации катализаторов. Кварцевая трубка доступна в нескольких диаметрах (Φ50‑100 мм) и длиной 1400 мм, что даёт гибкость по размещению подложек и загрузке партии.
Дополнительные преимущества включают надёжную вакуумную фланцевую систему с возможностью достижения до ≤ 10 Па, двойную оболочку корпуса с активным охлаждением (температура внешней поверхности ≤ 50 °C) и высокостойкие нагревательные элементы, защищённые от коррозии. Система подходит как для исследовательских лабораторий, так и для опытно‑производственных линий.
Похожие продукты
Похожие товары
Условия оплаты и доставки
Юридические лица
- Безналичный расчет
Физ. лица
- Безналичный расчет
- Наличный расчет в офисе продаж
Доставка
- Самовывоз со склада
- Доставка транспортной компанией
Оформить заказ
Для оформления заказа заполните форму и наш инженер свяжется с вами в ближайшее время!
Заказывайте также по телефону или по электронной почте:
Подбор оборудования
Вид оборудования
Бренд
Страна производства





