Передвижная CVD система ZYLAB Sliding PECVD System

Установка Sliding PECVD System от ZYLAB представляет собой передовую систему плазменного химического осаждения (PECVD) с функцией перемещения («sliding») печи, что позволяет значительно ускорить процессы нагрева и охлаждения реагентной зоны. Эта функциональность ценна при синтезе тонкоплёночных покрытий, где важны минимальные временные задержки и высокая точность температурных переходов. Камера, перемещающаяся по направляющим, позволяет быстро переключать режимы обработки, что сокращает цикл и повышает производительность.

Установка рассчитана на максимальную температуру до 1200 °C и обеспечивает стабильную работу при температуре до 1100 °C, что делает её подходящей для широкого спектра материалов: от оксидов и нитридов до современных наноматериалов и тонкоплёнок. Использование RF‑плазмы мощностью до 500 Вт при частоте 13.56 МГц и точной системе подачи газов гарантирует высокое качество плёнок, высокую однородность и воспроизводимость результатов.

Универсальность системы проявляется также в программируемом контроллере с возможностью записи множества температурных профилей, точностью контроля ±1 °C и поддержкой интеграции с автоматикой. Эта модель идеально подходит для исследовательских лабораторий, центров R&D и опытных производственных линий, где важна гибкость, качество и скорость обработки.