Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » CVD установки » CVD установка плазмохимического осаждения ZYLAB PECVD Furnace System

CVD установка плазмохимического осаждения ZYLAB PECVD Furnace System

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

PECVD120080

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Бренд: ZYLAB
Производитель: ZYLAB Solution
Страна производства: Китай
Модель: PECVD‑1200‑80
Максимальная температура: до 1200 °C
Непрерывная рабочая температура: до 1100 °C
Скорость нагрева: ≤ 20 °C/мин
РЧ источник питания: 300/500 Вт, 13.56 МГц
Трубка: Φ80 × 1200 мм
Вакуум: до ≤ 10 Па
Электропитание: 220 В, 4 кВт
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

Установка PECVD Furnace System от ZYLAB представляет собой передовую систему плазменного химического осаждения, предназначенную для высококачественного нанесения тонкоплёночных покрытий. Установка обеспечивает одноступенчатый цикл нанесения и очистки, что исключает перекрёстное загрязнение. Конструкция с верхней загрузкой облегчает наблюдение за процессом, а сенсорный интерфейс c автоматическим управлением позволяет точно контролировать все параметры.

Максимальная температура 1200 °C и стабильная работа до 1100 °C позволяют применять установку для осаждения широкого спектра материалов, включая SiO₂, SiₓNᵧ и SiC. Радиочастотный источник 13.56 МГц обеспечивает устойчивую плазму и равномерность процесса. Продуманная система вакуума (≤ 10 Па) делает установку идеальной для лабораторий, научных центров и R&D‑подразделений, где важны точность, повторяемость и чистота процесса.