Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » CVD установки » Лабораторная система химического газофазного осаждения ZYLAB O1200-XTI Standard

Лабораторная система химического газофазного осаждения ZYLAB O1200-XTI Standard

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

O1200XTIS

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Бренд: ZYLAB
Производитель: ZYLAB Solution
Страна производства: Китай
Диаметр трубки: 50 / 60 / 80 / 100 мм
Рабочая температура: до 1150 °С
Длина зоны нагрева: 440 мм
Скорость нагрева: до 20 °С/мин
Электропитание: 220 В, 4 кВт
Порты подачи газа: 2–4
Диапазон потока газа: 20–250 или 20–800 мл/мин
Рабочее давление: 0–0,15 МПа
Низкий вакуум: до 10 Па
Высокий вакуум: 10⁻³–10⁻⁵ Па
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

Установка O1200-XTI Standard — базовая и наиболее универсальная система для проведения процессов химического осаждения из паровой фазы. Она сочетает высокотемпературную трубчатую печь (до 1150 °С), широкие возможности по конфигурации подачи газов и рабочие режимы как при атмосферном давлении, так и под вакуумом. Благодаря длине зоны нагрева 440 мм установка обеспечивает равномерное температурное поле, что особенно важно при получении однородных тонких покрытий.

Система поддерживает выбор диаметра трубки от 50 до 100 мм, что делает её гибкой для лабораторий с различными задачами. Возможность установки от двух до четырёх газовых линий позволяет точно регулировать состав реакционной среды и проводить сложные многокомпонентные процессы — от синтеза наноматериалов и оксидных плёнок до получения функциональных покрытий для электроники.

Установка хорошо подходит для университетских лабораторий, НИОКР-центров и малых производственных линий. Она проста в обслуживании, надёжна и обеспечивает воспроизводимые результаты благодаря продуманной конструкции и качественным компонентам газовой и вакуумной системы.