Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » CVD установки » Компактная лабораторная система CVD ZYLAB O1200-XTI Mini-Lab

Компактная лабораторная система CVD ZYLAB O1200-XTI Mini-Lab

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

O1200XTIML

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Бренд: ZYLAB
Производитель: ZYLAB Solution
Страна производства: Китай
Диаметр трубки: 50 / 60 / 80 / 100 мм
Рабочая температура: до 1150 °С
Длина зоны нагрева: 440 мм
Скорость нагрева: до 20 °С/мин
Электропитание: 220 В, 4 кВт
Порты подачи газа: 2–4
Диапазон потока газа: 20–250 или 20–800 мл/мин
Рабочее давление: 0–0,15 МПа
Вакуум: опция до 10 Па
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

Установка O1200-XTI Mini-Lab — компактная модель, разработанная для исследовательских лабораторий, учебных центров и небольших технологических отделов. Она сохраняет все ключевые параметры старших моделей, включая рабочую температуру 1150 °С, длину зоны нагрева 440 мм и возможность подключения нескольких газовых линий, но имеет более компактную конфигурацию и сниженные требования к размещению оборудования.

Mini-Lab особенно хорошо подходит для образовательных целей, быстрых исследовательских серий, первичного подбора технологических режимов и экспериментов с новыми материалами. Установка поддерживает широкий спектр процессов CVD: осаждение оксидов, нитридов, карбидов, синтез углеродных нанотрубок, получение покрытий с заданной морфологией. Благодаря простой конфигурации и гибкости подачи газов модель позволяет исследователям быстро менять параметры процесса, адаптируя установку под различные научные задачи.

Несмотря на компактность, система остаётся производительной, надёжной и обеспечивает высокую однородность температурного поля, что является важным фактором при получении качественных тонких плёнок.