Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » CVD установки » CVD установка с псевдоожиженным слоем ZYLAB Fluidized Bed Furnace

CVD установка с псевдоожиженным слоем ZYLAB Fluidized Bed Furnace

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

FB1200VT3

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Бренд: ZYLAB
Производитель: ZYLAB Solution
Страна производства: Китай
Модель: FB1200-VT3
Максимальная температура: до ~1150 °C
Электропитание: 380 В, трёхфазное, 50 Гц
Номинальная мощность: 8 кВт
Количество зон нагрева: 3 зоны, независимое управление
Размер зоны нагрева: φ150 × (200 + 400 + 200) мм
Контроллер / точность: ±1 °C
Вакуум: ≤ 10 Па (механический насос)
Трубка: высокочистый кварц, фильтрующая пластина 16–40 мкм
Вес: ≈ 260 кг
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

Установка Fluidized Bed FBCVD Furnace от ZYLAB предназначена для процессов химического осаждения из паровой фазы (CVD) с применением технологии псевдоожиженного слоя (fluidized bed). В процессе работы газ подаётся снизу, создавая состояние активного перемешивания частиц, что значительно увеличивает площадь взаимодействия твёрдой фазы с газовой, улучшая теплоперенос и равномерность обработки.

Такая конструкция обеспечивает высокую эффективность при модификации катализаторов, синтезе углеродных нанотрубок, графена и других наноматериалов. Трёхзонная печь с диаметром рабочей зоны φ150 мм и длиной нагрева 200 + 400 + 200 мм позволяет формировать широкую и равномерную температурную область. Высокоточный контроллер (±1 °C), возможность хранения профилей и удалённого мониторинга делают эту установку удобной для современных исследовательских лабораторий и технологических центров.

Высокочистая кварцевая трубка с фильтрующей пластиной 16–40 мкм обеспечивает высокую чистоту процессов и стабильность флюидизации. Установка подходит как для фундаментальных исследований, так и для пилотного производства наноматериалов.