PVD система TMAX‑QH‑ZD02 для металлоорганического вакуумного напыления

TMAX‑QH‑ZD02 — PVD система для вакуумного напыления металлических и органических тонких плёнок в исследованиях OLED, перовскитных солнечных элементов, органических фотоэлектрических структур, 2D‑материалов и наноплёнок. Она обеспечивает высокую точность, повторяемость и стабильность процессов, что делает её востребованной в исследованиях и разработках OLED‑структур, перовскитных солнечных элементов, органических и неорганических фотопреобразователей, 2D‑материалов и других оптоэлектронных устройств.

Система оснащена восемью независимыми источниками испарения — четырьмя для металлов и четырьмя для органики, что предоставляет широкие возможности: однослойное, многослойное, комбинированное напыление и ко‑испарение. Максимальное достижимое давление ≤ 4 × 10⁻⁵ Па позволяет проводить процессы в условиях высокочистого вакуума, снижая риск загрязнения и обеспечивая высокое качество покрытия. Рабочее давление 5 × 10⁻⁴ Па достигается менее чем за 30 минут, а герметичность камеры позволяет удерживать давление ≤ 2 Па в течение 12 часов после остановки насосов.

Подложкодержатель с водяным охлаждением и регулируемой скоростью вращения (0–30 об/мин) улучшает равномерность напыления, обеспечивая отклонение толщины не более ±5 %. Конструкция камеры предусматривает боковую вставку образцов и фронтальную дверцу, что упрощает эксплуатацию и обслуживание. Установка поддерживает автоматизированное управление скоростью напыления, температурой и мощностью источников, что обеспечивает гибкость и точный контроль технологического процесса.

TMAX‑QH‑ZD02 отлично подходит для научных лабораторий, исследовательских институтов и центров, работающих в области солнечной энергетики, электроники, материаловедения и нанотехнологий. Это надёжная PVD‑установка, сочетающая высокую точность, удобство использования и широкие возможности для формирования функциональных тонкоплёночных покрытий.