Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Компактная PVD система плазменного магнетронного распыления SD-JS02

Компактная PVD система плазменного магнетронного распыления SD-JS02

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

SDJS02

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: SD-JS02
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод напыления: плазменное магнетронное распыление (PVD)
Камера: разъемная кварцевая камера
Размер камеры:150 мм × 120 мм
Размер подложки: до 70 мм в диаметре (регулировка высоты ±20 мм)
Размер мишени): Ø 50 мм (толщина 1–2 мм)
Рабочие газы: аргон, азот (с регулируемым расходом)
Максимальная скорость напыления: до 8 нм/мин
Предельный вакуум: 5 Па
Управление: цветной сенсорный экран 4,3″, графический интерфейс
Входная мощность: 200 Вт
Габариты (Ш×Г×В): 360 мм × 310 мм × 150 мм
Назначение: НИОКР, прототипирование полупроводников, оптические покрытия
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

SD-JS02 — компактная PVD система плазменного магнетронного распыления для НИОКР, прототипирования полупроводниковых структур и нанесения оптических покрытий. Данная настольная установка — эффективный и востребованный инструмент для научно-исследовательских лабораторий, мелкосерийного прототипирования полупроводниковых структур и нанесения высококачественных оптических покрытий.

Основой конструкции выступает разъемная кварцевая камера габаритами 150 на 120 миллиметров, что обеспечивает исключительную простоту технического обслуживания и удобный визуальный контроль плазменного разряда. Система оптимизирована для работы с металлическими мишенями (золото, серебро, платина и другие) диаметром 50 миллиметров. Использование инертных газов с возможностью точной регулировки их расхода позволяет достигать скорости распыления до 8 нанометров в минуту при поддержании рабочего вакуума на уровне 5 Па.

Держатель подложек спроектирован для размещения образцов диаметром до 70 миллиметров и оснащен механизмом ручной регулировки высоты в диапазоне ±20 миллиметров для точного позиционирования. Контроль процесса напыления осуществляется через цветной сенсорный дисплей диагональю 4,3 дюйма. Экран в режиме реального времени отображает ключевые параметры: ток распыления, напряжение и текущий уровень вакуума. Настольный формат установки с энергопотреблением всего 200 Ватт и функцией автоматического напуска атмосферы после завершения процесса делает ее надежным выбором для прецизионного формирования однородных тонких пленок при строгих ограничениях рабочего пространства.