Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » ВЧ‑магнетронная PVD установка SD-JS01 для металлов и диэлектриков
ВЧ‑магнетронная PVD установка SD-JS01 для металлов и диэлектриков
АРТИКУЛ:
SDJS01
Товар в наличии
Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.
Характеристики
Модель: SD-JS01
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод напыления: высокочастотное (ВЧ) магнетронное распыление
Размер камеры: 150 мм × 120 мм
Размер мишени: Ø 50 мм (допустимая толщина 1–2 мм)
Зона напыления: 50 мм
Предельный вакуум (базовое давление): 5 Па
Рабочие газы: аргон (Ar), азот (N2) и другие инертные газы
Мощность ВЧ-генератора: 1–500 Вт (регулируемая)
Рабочая частота: 13,56 МГц
Согласующее устройство: встроенный автоматический измеритель (согласователь) импеданса
Максимальная скорость осаждения: до 8 нм/мин
Управление: программируемое, с возможностью сохранения технологических рецептов
Назначение: НИОКР, полупроводники, диэлектрики, оптические покрытия, пробоподготовка
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу
- Официальная гарантия от производителя
Поделиться товаром
Преимущества нашей продукции
- Большой выбор оборудования на складе
- Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
- Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
- Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
- Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
- Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
- Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования
Описание
SD-JS01 — компактная ВЧ‑магнетронная PVD установка для вакуумного напыления металлов, диэлектриков, полупроводниковых структур и оптических покрытий. Это оптимальное решение для научно-исследовательских лабораторий и мелкосерийного прототипирования, специализирующихся на материаловедении и функциональных покрытиях. Рабочая камера имеет компактные габариты 150 мм × 120 мм, что в сочетании с базовым рабочим давлением 5 Па обеспечивает быструю откачку, экономию инертных газов и требуемую чистоту рабочего процесса.
Установка комплектуется надежным ВЧ-генератором с регулируемой мощностью от 1 до 500 Вт, работающим на промышленной частоте 13,56 МГц. Ключевым технологическим преимуществом является наличие системы автоматического согласования импеданса, которая сводит к минимуму необходимость ручной подстройки и гарантирует высокую стабильность плазменного разряда при работе со сложными изолирующими мишенями (например, оксидами или керамикой). Эргономичная конструкция узла магнетрона позволяет осуществлять быструю замену стандартных мишеней диаметром 50 мм, а максимальная скорость осаждения достигает 8 нм/мин при отличной пространственной однородности пленки. Аппарат поддерживает программируемое управление с возможностью сохранения рецептов, обеспечивая безупречную воспроизводимость экспериментов.
Похожие продукты
Похожие товары
Условия оплаты и доставки
Юридические лица
- Безналичный расчет
Физ. лица
- Безналичный расчет
- Наличный расчет в офисе продаж
Доставка
- Самовывоз со склада
- Доставка транспортной компанией
Оформить заказ
Для оформления заказа заполните форму и наш инженер свяжется с вами в ближайшее время!
Заказывайте также по телефону или по электронной почте:
Подбор оборудования
Вид оборудования
Бренд
Страна производства





