Вакуумная напылительная установка QH-DZ01 для многослойных покрытий

Оценка 5 из 5

АРТИКУЛ:

QHDZ01

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: QH-DZ01
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод напыления: электронно-лучевое испарение и термическое резистивное испарение
Источники испарения: электронная пушка и резистивные испарители
Камера: камера с фронтальной дверцей (ручное открывание)
Размер подложки: 100 × 100 мм (опционально возможно увеличение держателя до 200 × 200 мм)
Размер держателя образца: 126 × 126 мм (2 шт.)
Расстояние испарения: 330 ± 20 мм
Равномерность пленки: ≤ ±3 % (проверка по 9 точкам на площади 10 × 10 см²)
Температура нагрева подложки: до 300 °C ±1 °C
Предельный вакуум: ≤ 6 × 10⁻⁵ Па (после прогрева, для нового оборудования)
Рабочий вакуум: 7 × 10⁻⁴ Па (достигается менее чем за 40 мин)
Скорость натекания (утечка): ≤ 6,7 × 10⁻⁸ Па·л/с
Удержание давления в системе: ≤ 10 Па через 12 часов (после выключения)
Управление: автоматическое управление вакуумной откачкой; управление осаждением за счет регулировки мощности источников
Входная мощность: 2 кВт
Мощность электронной пушки: 6 кВт
Назначение: оптика и фотоника, полупроводники и электроника, лабораторные исследования (НИОКР), нанесение промышленных покрытий
Сертификация: CE
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

Поделиться товаром

VK
OK
Telegram
WhatsApp
Email

Преимущества нашей продукции

Описание

QH-DZ01 — вакуумная напылительная установка для многослойного осаждения тонких плёнок методом электронно‑лучевого и термического резистивного испарения. Благодаря комбинированной системе источников испарения, установка является универсальным инструментом для разработки перовскитных солнечных элементов, передовой оптоэлектроники и полупроводниковых приборов.

Ключевой особенностью системы является сочетание методов электронно-лучевого и термического резистивного испарения в едином вакуумном цикле. Наличие электронной пушки мощностью 6 кВт позволяет эффективно испарять тугоплавкие металлы и диэлектрические слои, в то время как резистивные источники обеспечивают бережное осаждение легкоплавких металлов и органических пленок. Это дает возможность проводить последовательное многослойное напыление гибридных структур без разгерметизации камеры и потери чистоты эксперимента. Рабочая камера выполнена из нержавеющей стали и оснащена фронтальной дверцей для удобного доступа к внутрикамерной оснастке.

Высоковакуумная откачная система обеспечивает быстрое достижение рабочего давления 7 × 10⁻⁴ Па (менее чем за 40 минут), при этом базовый предельный вакуум системы достигает ≤ 6 × 10⁻⁵ Па. Установка демонстрирует превосходную герметичность: скорость натекания не превышает 6,7 × 10⁻⁸ Па·л/с, а удержание давления в отключенном состоянии составляет ≤ 10 Па за 12 часов. Скорость осаждения и финальная толщина слоев строго контролируются с помощью кварцевого монитора (QCM), гарантирующего нанометровую точность.

За счет оптимизированной геометрии (расстояние испарения 330 ± 20 мм) достигается отличная равномерность пленки с отклонением ≤ ±3 %. Для обеспечения специальных условий синтеза предусмотрен прецизионный подогрев подложек до 300 °C с шагом стабилизации ±1 °C. Архитектура системы допускает возможность стыковки с перчаточным боксом для проведения загрузки/выгрузки и процессов напыления в контролируемой инертной атмосфере. Это критически важное условие при работе с перовскитами и органикой, склонными к деградации под воздействием кислорода и влаги.

Условия оплаты и доставки

Юридические лица

- Безналичный расчет

Физ. лица

- Безналичный расчет
- Наличный расчет в офисе продаж

Доставка

- Самовывоз со склада
- Доставка транспортной компанией

Оформить заказ

Для оформления заказа заполните форму и наш инженер свяжется с вами в ближайшее время!

Заказывайте также по телефону или по электронной почте: