Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Вакуумная напылительная установка PC-DZ03 с электронно‑лучевым испарением

Вакуумная напылительная установка PC-DZ03 с электронно‑лучевым испарением

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

PCDZ03

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: PC-DZ03
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод напыления: электронно-лучевое испарение (в комплекте); термическое резистивное испарение (опционально)
Камера: U-образная конструкция с фронтальной загрузкой
Размер камеры: 800 мм × 600 мм × 600 мм
Размер подложки: до 4 дюймов
Скорость вращения подложки: 5–60 об/мин (с плавной регулировкой)
Расстояние от источника до подложки: 300–350 мм
Температура нагрева подложки: до 800 ℃ ±1 ℃
Предельный вакуум (базовое давление): ≤ 6,7 × 10⁻⁴ Па
Время откачки: ≤ 20 мин (от 1 × 10⁻¹ Па до 5 × 10⁻⁴ Па)
Скорость натекания (утечка): ≤ 6,7 × 10⁻⁷ Па·л/с
Контроль толщины: кварцевые микровесы (QCM), диапазон измерений 0–99 999 Å
Управление: ручное (нагрев и заслонка образца); 1-канальный регулятор массового расхода (MFC)
Входная мощность: 2000 Вт
Назначение: университетские лаборатории, научно-исследовательские институты, мелкосерийное производство
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

PC-DZ03 — вакуумная напылительная установка для нанесения тонких плёнок методом электронно‑лучевого испарения с возможностью добавления термического резистивного источника. Данная установка — эффективный и востребованный инструмент для разработки солнечных элементов, оптических покрытий, а также под создание тонкопленочных структур для полупроводниковой промышленности. Основой конструкции выступает вакуумная камера U-образной формы с фронтальной загрузочной дверцей, что обеспечивает удобный доступ к внутрикамерной оснастке. Габариты рабочей камеры составляют 800 мм × 600 мм × 600 мм.

Высокая скорость откачки и чистота процесса достигаются за счет надежной вакуумной системы: время откачки от 1 × 10⁻¹ Па до рабочего уровня 5 × 10⁻⁴ Па занимает не более 20 минут. Базовое давление в камере составляет ≤ 6,7 × 10⁻⁴ Па при жестком контроле скорости натекания на уровне ≤ 6,7 × 10⁻⁷ Па·л/с. В стандартной комплектации аппарат оснащен одним электронно-лучевым источником испарения. Опционально возможна установка дополнительного источника для термического резистивного испарения. Подобная гибридная конфигурация позволяет работать с широким спектром материалов (от легкоплавких металлов до тугоплавких диэлектриков) в рамках единого технологического цикла.

Держатель подложки спроектирован для работы с пластинами размером до 4 дюймов. Равномерность толщины осаждаемой пленки обеспечивается за счет механизма вращения подложки с плавно регулируемой скоростью от 5 до 60 об/мин. Фокусное расстояние от источника до подложки оптимально подобрано и составляет 300–350 мм. Для проведения процессов отжига или эпитаксиального роста предусмотрен нагрев подложки до 800 ℃ с высокой точностью поддержания температуры (±1 ℃). Контроль процесса напыления осуществляется с помощью кварцевых микровесов (QCM), обеспечивающих мониторинг толщины в диапазоне 0–99 999 Å. Управление нагревом и положением заслонки образца производится в ручном режиме, что дает пользователю полный физический контроль над критически важными этапами формирования пленки.