Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Автоматическая установка термического вакуумного напыления углерода HZ-ZD01

Автоматическая установка термического вакуумного напыления углерода HZ-ZD01

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

HZZD01

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: HZ-ZD01
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод напыления: низкотемпературное импульсное термическое испарение
Тип источника испарения: импульсный планарный W-образный источник
Камера: ультракомпактная конструкция
Размер камеры: Ø 120 мм × 100 мм
Рабочий вакуум: 2–8 Па (разрешение дисплея 0,1 Па)
Предельный вакуум: <1 Па
Вакуумная система: пластинчато-роторный насос
Измерение вакуума: датчик Пирани с мониторингом в реальном времени
Параметры испарения: напряжение 0–10 В (DC), максимальный ток 80 А
Время испарения: 100 мс – 1 с (регулируемое)
Управление: полностью автоматизированное интеллектуальное управление
Электропитание: 100–250 В (AC), 50/60 Гц
Габариты установки: 530 мм × 300 мм × 320 мм
Назначение: высококачественное нанесение углеродных пленок, пробоподготовка для материаловедческих исследований
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

HZ-ZD01 — автоматизированная установка термического вакуумного напыления углерода для получения тонких углеродных плёнок и пробоподготовки образцов в материаловедении. Система использует низкотемпературное импульсное термическое испарение с W‑образным источником, рабочую камеру Ø120 × 100 мм, вакуум 2–8 Па и полностью автоматизированное интеллектуальное управление. Регулируемое время импульса 100 мс – 1 с и ток испарения до 80 А позволяют наносить проводящие углеродные покрытия без избыточного теплового воздействия на образец.

Ключевой особенностью комплекса выступает инновационная технология высокоэффективного импульсного испарения. Подобный подход гарантирует строго низкотемпературный режим осаждения, что критически важно для защиты термочувствительных полимерных и биологических материалов от деградации в процессе металлизации. Ультракомпактная вакуумная камера (Ø 120 мм × 100 мм) оптимизирована для форсированного достижения рабочего вакуума в диапазоне от 2 до 8 Па, что существенно снижает время рабочего цикла и минимизирует фоновые загрязнения.

Для повышения пропускной способности прибор оснащен предметным столиком с возможностью одновременной загрузки нескольких образцов. Интеллектуальная система управления на базе ARM-архитектуры реализует полностью автоматизированный алгоритм работы, исключая человеческий фактор. Аппаратный мониторинг вакуума, рабочего тока и напряжения в связке с двойной системой защиты гарантирует высокую стабильность процессов, исключительную повторяемость толщин наноразмерных покрытий и долговременную надежность эксплуатации комплекса.