Двухкатодная вакуумная магнетронная установка HZ-JS04 для многослойных плёнок

HZ-JS04 — двухкатодная вакуумная магнетронная установка для нанесения однослойных, многослойных и градиентных тонких плёнок методом магнетронного ионного распыления. Конфигурация с двумя катодами позволяет выполнять попеременное или совместное распыление мишеней с независимым управлением, а вакуумная система на базе безмасляного диафрагменного и турбомолекулярного насосов обеспечивает базовое давление до 1,0 × 10⁻⁴ Па. Система поддерживает подачу Ar, O₂ и N₂ через MFC и подходит для НИОКР, материаловедения и разработки функциональных PVD‑покрытий из металлов, сплавов и соединений.

Конфигурация с двумя магнетронными источниками и независимым управлением мишенями позволяет реализовывать последовательное, совместное и реактивное распыление, что делает установку эффективным инструментом для формирования однослойных, многослойных и переходных по составу покрытий. В качестве вакуумной группы применяется комбинация безмасляного диафрагменного и турбомолекулярного насосов, обеспечивающая предельное давление до 1,0 × 10⁻⁴ Па и снижение риска углеводородного загрязнения камеры. Газовая среда процесса регулируется через контроллеры массового расхода для Ar, O₂ и N₂, что особенно важно при нанесении оксидных и нитридных пленок.

Установка ориентирована на задачи в области микроэлектроники, материаловедения, оптики и исследований тонкопленочных структур, где критичны чистота вакуума, стабильность плазмы и точный контроль состава покрытия.