Двухмишеневая установка магнетронного распыления HZ-JS03 для СЭМ‑образцов

HZ-JS03 — двухмишеневая установка магнетронного распыления для подготовки непроводящих образцов к СЭМ‑исследованиям в материаловедении и биологии. Система работает с двумя мишенями Au/Pt и углеродом, оснащена цилиндрической вакуумной камерой 160 × 120 мм и позволяет обрабатывать до 12 образцов за цикл при высоте до 25 мм. Рабочее давление 2–10 Па, ток распыления 10–50 мА и температура образца ниже 40 ℃ обеспечивают низкотемпературное вакуумное напыление покрытия с размером частиц менее 5 нм.

Благодаря оптимизированным параметрам плазмы и рабочему давлению в диапазоне от двух до десяти паскалей обеспечивается формирование сплошных однородных пленок с размером зерна менее пяти нанометров. Подобная сверхтонкая структура покрытия эффективно устраняет эффекты зарядки поверхности, многократно повышает контрастность изображения и гарантирует достоверную морфологическую характеризацию объектов при сверхвысоких увеличениях. Просторная рабочая камера легко вмещает нестандартные объекты сложной геометрии и высокие предметные столики, позволяя одновременно обрабатывать до двенадцати образцов. Интеллектуальная система контроля напряжения с миллиамперной точностью и мониторинг плазмы в реальном времени надежно предотвращают возникновение дуговых разрядов. Особая конфигурация магнитной системы обеспечивает эффективное удержание плазменного разряда, полностью исключая термическое повреждение подложки и сохраняя температуру исследуемого материала ниже 40 ℃.

Данное оборудование является оптимальным и надежным инструментом для современных научно-исследовательских центров, специализированных университетских лабораторий и высокотехнологичных предприятий.