Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » Двухисточниковая установка термического вакуумного напыления BY-ZD04
Двухисточниковая установка термического вакуумного напыления BY-ZD04
АРТИКУЛ:
BYZD04
Товар в наличии
Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.
Характеристики
Модель: BY-ZD04
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод напыления: вакуумное испарение из двух независимых металлических источников
Камера: стеклянный колпак с основанием из нержавеющей стали
Размер камеры: Ø300 мм × 360 мм
Размер подложки: до Ø100 мм
Температура нагрева подложки: от комнатной температуры до 250 ℃
Равномерность покрытия: ≤ ±5,0 % в зоне Ø80 мм
Источники испарения: 2 независимых источника
Система управления: ПЛК с сенсорным интерфейсом
Габариты установки: 1100 × 800 мм
Требуемая мощность: не менее 5 кВт
Входная мощность: 2000 Вт
Назначение: напыление многослойных металлических и органических пленок, исследования в электронике
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу
- Официальная гарантия от производителя
Поделиться товаром
Преимущества нашей продукции
- Большой выбор оборудования на складе
- Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
- Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
- Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
- Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
- Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
- Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования
Описание
BY-ZD04 — двухисточниковая установка термического вакуумного напыления для нанесения многослойных металлических и органических плёнок. Система использует два независимых испарительных источника, вакуумную камеру Ø300 × 360 мм со стеклянным колпаком и основанием из нержавеющей стали, нагрев подложки до 250 ℃ и PLC‑управление с сенсорным интерфейсом. Установка подходит для лабораторных исследований в электронике и материаловедении, где требуется последовательное вакуумное напыление покрытий из разных материалов.
Конструктивно установка выполнена на базе стеклянной вакуумной камеры колпакового типа с основанием из нержавеющей стали, что обеспечивает удобный доступ к технологической оснастке и хороший визуальный контроль процесса. Два независимых источника испарения позволяют реализовывать как последовательное осаждение многослойных структур, так и соиспарение для получения сплавов, легированных и композиционных пленок.
Подложкодержатель рассчитан на образцы диаметром до 100 мм, а нагрев подложки до 250 ℃ расширяет технологические возможности при нанесении металлических и функциональных тонкопленочных покрытий. Для данной модели заявлена равномерность покрытия не хуже ±5 % в рабочей зоне диаметром 80 мм, а управление процессом осуществляется через ПЛК и сенсорную панель, что повышает повторяемость режимов и снижает влияние человеческого фактора. Установка подходит для исследований в области солнечных элементов, OLED-структур и других тонкопленочных технологий.
Похожие продукты
Похожие товары
Условия оплаты и доставки
Юридические лица
- Безналичный расчет
Физ. лица
- Безналичный расчет
- Наличный расчет в офисе продаж
Доставка
- Самовывоз со склада
- Доставка транспортной компанией
Оформить заказ
Для оформления заказа заполните форму и наш инженер свяжется с вами в ближайшее время!
Заказывайте также по телефону или по электронной почте:
Подбор оборудования
Вид оборудования
Бренд
Страна производства




