Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Вакуумная магнетронная установка BY-JS04 для лабораторного напыления

Вакуумная магнетронная установка BY-JS04 для лабораторного напыления

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

BYJS04

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: BY-JS04
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод напыления: высоковакуумное магнетронное распыление
Камера: цилиндрическая колба из боросиликатного стекла
Размер камеры: Ø180 мм × 240 мм
Размер подложки: предметный столик Ø180 мм (совместим с оснасткой Ø80 мм)
Предельный вакуум: (базовое давление)≤ 5 × 10⁻⁴ Па
Вакуумная система: турбомолекулярный насос (80 л/с) и двухступенчатый форвакуумный насос
Габариты мишеней: Ø60–80 мм (для слабомагнитных материалов)
Материал мишеней: Au 60×0.1 мм (в комплекте); Ag, Pt (опционально)
Ток распыления: 0–500 мА
Рабочий газ: поддержка различных газов (например, Ar)
Управление: ручное
Рабочее напряжение: 220 В, 50 Гц
Назначение: университетские лаборатории, НИОКР, пробоподготовка для РЭМ
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

BY-JS04 — вакуумная магнетронная установка для лабораторного нанесения тонких металлических покрытий методом высоковакуумного магнетронного распыления. Основой вакуумного объема выступает цилиндрическая камера из высококачественного боросиликатного стекла с габаритами Ø180 мм на 240 мм, обеспечивающая полный визуальный контроль плазменного разряда.

Высокая скорость откачки и превосходная чистота процесса достигаются за счет производительной вакуумной системы, состоящей из турбомолекулярного насоса со скоростью действия 80 л/с в комбинации с надежным двухступенчатым форвакуумным агрегатом. Подобная архитектура гарантирует стабильное достижение базового давления на уровне 5 × 10⁻⁴ Па. В базовой комплектации аппарат адаптирован для распыления слабомагнитных материалов диаметром 60–80 мм, включая стандартную золотую мишень, с возможностью опциональной установки серебра или платины. Конструкция магнетронного узла с усиленным удержанием плазмы обеспечивает высокую скорость напыления при минимальном паразитном нагреве подложки, что критически важно для работы с термочувствительными образцами. Размещение пластин осуществляется на универсальном предметном столике. Напуск рабочего газа и управление процессом производятся в ручном режиме, предоставляя исследователю необходимую гибкость.

Аппарат является востребованным инструментом для университетских лабораторий, создания экспериментальных тонкопленочных структур и качественной пробоподготовки.