Главная страница » Каталог оборудования » Аддитивные и вакуумно-плазменные технологии » Установки вакуумного напыления, PVD / CVD оборудование » PVD установки » Вакуумная установка магнетронного распыления BY-JS02 для пробоподготовки

Вакуумная установка магнетронного распыления BY-JS02 для пробоподготовки

Оценка 5 из 5

В избранное

АРТИКУЛ:

BYJS02

Товар в наличии

Минимальная сумма заказа в нашем магазине от 5000 руб.
Цены на нашем сайте актуальны при заказе от 20 000 рублей.

Характеристики

Модель: BY-JS02
Бренд: TMAX
Производитель: Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
Страна производства: Китай
Метод нанесения покрытия: ионное распыление постоянным током (DC sputtering)
Тип покрытия: углеродное покрытие
Принцип работы: двухэлектродное DC-распыление
Камера: стеклянный колокол + резиновое уплотнение + высоковольтный электрод с керамической изоляцией
Размер камеры: Ø160 мм × 120 мм
Размер подложки: Ø50 мм / Ø70 мм (регулируемый держатель)
Размер мишени: 50 мм × 0,1 мм (толщина)
Материалы мишени: Au (стандарт), Ag, Al, Pt и др. (опционально)
Рабочий газ: Ar, N₂ и другие
Вакуумная система: вакуумный насос (в комплекте)
Ток распыления: до 50 мА
Скорость осаждения: >4 нм/мин
Система контроля: вакуумметр + амперметр + регулятор тока + микровакуумный клапан + таймер
Питание: 220 В переменного тока (110 В опционально), 50 Гц
Назначение: подготовка образцов для РЭМ, нанесение проводящих покрытий, лабораторные исследования
Гарантия: 12 месяцев
Цена: по запросу

ЗВОНИТЕ! +7 (499) 302-50-56

Поделиться товаром

Преимущества нашей продукции

Большой выбор оборудования на складе
Разработка и производство нестандартного оборудования для исследований
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Поставка стандартного лабораторного и технологического оборудования
Комплексное снабжение государственных и муниципальных предприятий по 44-ФЗ и 223-ФЗ.
Являемся официальными представителями и дилерами многих зарубежных брендов
Собственное проектирование и изготовление лабораторного оборудования

Описание

BY-JS02 — компактная вакуумная установка магнетронного распыления для нанесения проводящих покрытий на образцы перед РЭМ‑анализом и другими лабораторными исследованиями. Система использует DC‑распыление, оснащается стеклянной вакуумной камерой Ø160 × 120 мм, регулируемым держателем подложек Ø50/Ø70 мм и поддерживает мишени Au, Ag, Al, Pt и другие материалы. Такая напылительная установка подходит для быстрой пробоподготовки, когда требуется равномерное металлическое покрытие без крупногабаритной промышленной PVD‑системы.
Данная система — эффективный и востребованный инструмент для пробоподготовки образцов перед исследованиями методом растровой электронной микроскопии, а также для создания тонкопленочных структур в материаловедческих лабораториях.

Основой конструкции выступает надежная двухэлектродная система распыления (DC-спадтеринг), обеспечивающая равномерное формирование токопроводящих пленок. Аппарат оснащен выделенной камерой напыления, объем которой оптимизирован для минимизации расхода рабочих газов, таких как аргон или азот. Высокая скорость откачки и стабильность вакуума достигаются за счет интеграции высокопроизводительного форвакуумного насоса, что существенно сокращает время подготовки к процессу. Конфигурация установки позволяет работать с широким спектром материалов, обеспечивая прецизионное осаждение как металлов, так и углерода для снятия статического заряда с непроводящих диэлектрических образцов. Интуитивно понятный интерфейс и продуманная эргономика дают пользователю полный контроль над параметрами плазмы и процессом формирования пленки, гарантируя высокую воспроизводимость результатов от цикла к циклу.