Вакуумная установка магнетронного распыления BY-JS02 для пробоподготовки

BY-JS02 — компактная вакуумная установка магнетронного распыления для нанесения проводящих покрытий на образцы перед РЭМ‑анализом и другими лабораторными исследованиями. Система использует DC‑распыление, оснащается стеклянной вакуумной камерой Ø160 × 120 мм, регулируемым держателем подложек Ø50/Ø70 мм и поддерживает мишени Au, Ag, Al, Pt и другие материалы. Такая напылительная установка подходит для быстрой пробоподготовки, когда требуется равномерное металлическое покрытие без крупногабаритной промышленной PVD‑системы.
Данная система — эффективный и востребованный инструмент для пробоподготовки образцов перед исследованиями методом растровой электронной микроскопии, а также для создания тонкопленочных структур в материаловедческих лабораториях.

Основой конструкции выступает надежная двухэлектродная система распыления (DC-спадтеринг), обеспечивающая равномерное формирование токопроводящих пленок. Аппарат оснащен выделенной камерой напыления, объем которой оптимизирован для минимизации расхода рабочих газов, таких как аргон или азот. Высокая скорость откачки и стабильность вакуума достигаются за счет интеграции высокопроизводительного форвакуумного насоса, что существенно сокращает время подготовки к процессу. Конфигурация установки позволяет работать с широким спектром материалов, обеспечивая прецизионное осаждение как металлов, так и углерода для снятия статического заряда с непроводящих диэлектрических образцов. Интуитивно понятный интерфейс и продуманная эргономика дают пользователю полный контроль над параметрами плазмы и процессом формирования пленки, гарантируя высокую воспроизводимость результатов от цикла к циклу.